本建筑、建材類產品：美國Allied拋光液懸浮液 建筑、建材，由江蘇無錫市供應商無錫吉致電子科技有限公司供應，詳細信息如下：
1.分散性好。
2.粒徑分布廣泛：10-150nm。
3.高純度，有效減小對電子類產品的沾污。
4.適合與各種拋光墊、合成材料配合拋光使用。
5.PH、粒徑、穩定離子等可以根據客戶定制(10-150 nm)。
6.經特殊工藝合成的化學機械拋光液，納米顆粒呈球形，單分散，大小均勻，粒徑分布窄，可獲得高質量的拋光精度。

拋光過程中具有：
1.高拋光速率，利用大粒徑的膠體二氧化硅粒子達到高速拋光的目的。（可以生產150 nm）。
2.高平坦度加工，本品拋光是利用SiO2的膠體粒子，不會對加工件造成物理損傷，達到高平坦化加工。

拋光過程后具有：
1.精度可以達到納米級。
2.劃傷和挖傷可以達到0/0。

Slurry適用于集成電路當中的銅互連工藝制程中銅的去除和平坦化。具有高的銅去除速率，碟型凹陷可調，低缺陷等特性。可應用于邏輯芯片以及3D NAND和DRAM芯片等量產使用。清除集成電路中銅拋光后表面的拋光顆粒和化學物殘留，以防銅表面腐蝕，降低表面缺陷。

以及用于單晶硅、多晶硅的研磨拋光，存儲器制程和背照式傳感器(BSI)制程等。可定制選擇穩定的選擇比，去除速率，對氧化物/氮化物的選擇比。硅精拋液系列具有低缺陷的優點。BSI拋光液系列具有理想的硅和二氧化硅去除速率和選擇比。涵蓋TSV銅/阻擋層Slurry，TSV晶背銅/介質層拋Slurry、TSV晶背硅Slurry、TSV晶背硅/銅Slurry等。具有高去除速率、選擇比可調等優點。
以及集成電路制造工藝中淺槽隔離的拋光等等。


使用方法：
1.使用前清理瓶口，以防污染發生。
2.使用時，根據不同行業的需要可用去離子水加以稀釋，調制不同濃度。
3.現場需保持清潔無揚塵，防止受到拋光液配制和使用過程遭到污染。
4.循環使用粘度增大時,應予以重新配制新的拋光液，以免損傷工件，降低良率。


儲存方法：
1.保持室內陰涼。
2.避免敞口長期與空氣接觸。
3.貯存時應避免曝曬，貯存溫度為5-35℃
4.低于0℃以上儲存，防止結冰，在零度以下因產生不可再分散結塊而失效。

價格實惠：
引進國外生產技術，吉致電子科技其品質可以媲美進口的產品,有效的避免了進口產品其交貨周期長，價格昂貴。


安全處置：
1.車間內必須保持良好的通風狀況。
2.如與眼睛或皮膚接觸，請用大量清水沖洗。
3.在使用時請勿進食或吸煙。
4.使用前可參閱安全技術說明書。


包裝方式：25KG/桶(也可依客戶需求)
產品制造：品性依據ISO9001規范
保存期限：保質期為二年，建議在一年內使用。
保存條件：溫度范圍=5°C~35°C ，濕度范圍<=70％
危險特征：產品本身沒有刺激性，對人體無害。
廢棄物處理：切勿將廢棄拋光劑排放入下水道、水體或土壤，廢置拋光液應符合當地環保標準來處理。
關鍵詞：建筑、建材 美國Allied拋光液懸浮液 建筑、建材 無錫吉致電子科技有限公司